CMOS互补金属氧化物半导体超声波清洗机

在计算机领域，CMOS常指保存计算机基本启动信息（如日期、时间、启动设置等）的芯片。有时人们会把CMOS和BIOS混称，其实CMOS是主板上的一块可读写的并行或串行FLASH芯片，是用来保存BIOS的硬件配置和用户对某些参数的设定。

在今日，CMOS制造工艺也被应用于制作数码影像器材的感光元件，尤其是片幅规格较大的单反数码相机。

一、设备概述：

威固特公司生产的CMOS“互补金属氧化物半导体”全自动超声波清洗机，整个工艺流程使用PLC编程控制，可根据清洗工艺要求，灵活设置动作参数。采用全自动化运行过程，用来清洗CMOS“互补金属氧化物半导体”效果特别好，溶剂保持洁净时间长，实现清洗流程的自动化作业，降低操作人员劳动强度，提高设备的生产能力和清洗效果。

二、结构组成：

超声波清洗系统：采用SUS不锈钢制作，采用日本技术超声换能器、发生器；

多臂式机械输送装置：PLC控制、伺服电机、伺服驱动器、减速器、直线导轨、气缸及其他配置；

过滤系统不锈钢过滤器：水泵、过滤器、阀门、管路、过滤棉芯；

加热系统：加热管、液位控制、温度器及其他配置；

水快进快出系统：储水箱、气动阀、液位控制器、电磁水阀等；

自动进出料系统：电磁阀、气缸、导轨及其它配置；

进排液管路：全部采用不锈钢材料制做；

电气控制装置：PLC控制、电控材料、数显触摸屏；

底盘机架：不锈钢材料制作。

三、清洗工艺流程：

自动上料→1.超声波洗剂清洗→2.纯水漂洗→3.超声波漂洗→4.超声波漂洗→5.超声波漂洗→超声波漂洗→自动下料。

四、清洗优势：

威固特全自动超声波清洗机被公认为当前效率**，效果***清洗方式，其清洗效率达到百分之九十八以上，清洗洁净度也达到**级别，而传统的手工清洗和有机溶剂清洗的清洗效率仅仅为百分之六十到百分之七十,即使是气相清洗和高压水射流清洗的清洗效率也低于百分之九十；因此，CMOS“互补金属氧化物半导体”全自动超声波清洗机以其效率高、效果好，适用于大工作量清洗的特性无疑是清洗的**选择，这也是为什么凡是对洁净度要求高的行业都会优先选择威固特超声波清洗机来清洗的原因。

五、注意事项：

1、检查机器是否安装妥善，将所有的支撑脚旋下，将机器调至水平位置；

2、将所有的电源开关置于“关”的位置，检查电源是否合乎要求，机壳接地是否可靠；

3、检查供水与排水管路连接是否正确；

4、清洗槽内无清洗液时，**不能启动过滤，否则会损坏水泵；

5、槽内无清洗液时，**禁止加热，否则会损坏发热设备；

6、不得将物体直接放入清洗槽中清洗，如有异物落入槽底应及时取出；

7、每周要对清洗机进行洁净，这样可以提高超声波清洗的寿命；

8、清洗剂的更换周期：用户根据工件的清洗工件量及清洗液的干净程度来决定；

9、不可将液体溅湿到加热器；

10、更换清洗液时，应关闭喷淋泵，停止加热，清洗液温降至常温后进行；

11、各清洗槽内沉积物过多时应及时放液冲洗清除；

12、在清洗槽注满清洗液的情况下应尽量避免推动或搬移清洗机；

13、下班或不使用时，请关闭所有加热，水泵及超声波。若是长时间停止使用清洗机，请将电气控制柜内的总电源开关断开。

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